Fabrication of SiGe/Ge nanostructures by three-dimensional Ge condensation of sputtered SiGe on SiO2/Si substrate

发布时间：2021-11-29

• 发表刊物：
  Journal of Alloys and Compounds
• 第一作者：
  Guangyang Lin
• 通讯作者：
  Yuping Zeng
• 全部作者：
  Haiyang Hong,Jie Zhang,Yuying Zhang,Peng Cui,Jianyuan Wang,Songyan Chen,Yong Zhao,Chaoying Ni,Cheng Li
• 卷号：
  858
• 期号：
  25
• 页面范围：
  157653
• DOI码：
  10.1016/j.jallcom.2020.157653
• 是否译文：
  否
• 发表时间：
  2020-10
• 收录刊物：
  SCI