论文成果
Study of Gate Width Influence on Extrinsic Transconductance in AlGaN/GaN Heterostructure Field-Effect Transistors With Polarization Coulomb Field Scattering
  • 发表刊物:
    IEEE Transactions on Electron Devices
  • 全部作者:
    Yuanjie Lv,Zhihong Feng,Wei Lin,Peng Cui,Yan Liu,Chen Fu
  • 第一作者:
    Ming Yang
  • 论文类型:
    期刊论文
  • 通讯作者:
    Zhaojun Lin
  • 卷号:
    63
  • 期号:
    10
  • 页面范围:
    3908
  • 是否译文:
  • 发表时间:
    2016-10-01
  • 收录刊物:
    SCI

上一条:Influence of different GaN cap layer thicknesses on electron mobility in AlN/GaN heterostructure field-effect transistors

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