论文成果
Effects of rapid thermal annealing on the electrical properties and the strain of the AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors with Ni/Au gate electrodes
  • 发表刊物:
    Applied physics A-Materials Science & Processing
  • 全部作者:
    Quanyou Chen,Ming Yang,Peng Cui,Yuanjie Lv,Zhihong Feng
  • 第一作者:
    Jingtao Zhao
  • 论文类型:
    期刊论文
  • 通讯作者:
    Zhaojun Lin
  • 卷号:
    121
  • 页面范围:
    1271
  • 是否译文:
  • 发表时间:
    2015-11-01
  • 收录刊物:
    SCI

上一条:Effect of Polarization Coulomb Field Scattering on Parasitic Source Access Resistance and Extrinsic Transconductance in AlGaN/GaN Heterostructure FETs

下一条:A study of the impact of gate metals on the performance of AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors

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