论文成果
Influence of polarization Coulomb field scattering on the electrical properties of normally-off recessed gate AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor high-electron-mobility transistor with ALD-Al2O3 gate dielectric stack
  • 所属单位:
    新一代半导体材料研究院
  • 发表刊物:
    SOLID-STATE ELECTRONICS
  • 第一作者:
    Jiang, Guangyuan
  • 论文编号:
    33733E2B9BFF407EB865DA65E98904F1
  • 卷号:
    201
  • 字数:
    4000
  • 是否译文:
  • 发表时间:
    2023-03-01

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