本方向基于微纳加工方法，如电子束曝光（EBL）、聚焦离子束（FIB）刻蚀等，实现对于微纳米结构的制备，并应用于微纳光学、脑机接口器件的制备和研究；同时，开展微纳光学器件方向的仿真工作。
Hua Yu Feng
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Gender:Male
Education Level:With Certificate of Graduation for Doctorate Study
Alma Mater:马德里自治大学
Research Focus
Current position:
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微纳加工、微纳光学及脑机接口