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胡小波

职称：教授
所在单位：晶体材料研究院

教师拼音名称：huxiaobo
入职时间：1997-09-01
所在单位：晶体材料研究院
性别：男
在职信息：在职
是否在职：1

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

标题：

Electordepositon of submicron/nanoscale Cu2O/Cu junctions in an ultrathin CuSO4 solution layer

点击次数：

所属单位：

晶体材料研究所

发表刊物：

Journal of Electroanalytical Chemistry

全部作者：

王继扬

第一作者：

于光伟

论文类型：

基础研究

论文编号：

lw-84491

卷号：

638

页面范围：

225

是否译文：

否

发表时间：

2010-01-15

发表时间：

2010-01-15

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