标题：
Electordepositon of submicron/nanoscale Cu2O/Cu junctions in an ultrathin CuSO4 solution layer
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所属单位：
晶体材料研究院
发表刊物：
Journal of Electroanalytical Chemistry
全部作者：
于光伟,胡小波,刘铎,孙大亮,李静,张怀金,王继扬,
第一作者：
于光伟
论文编号：
lw-84491
卷号：
638
页面范围：
225
是否译文：
否
发表时间：
2010-01-15
发表时间：
2010-01-15
职称：教授
所在单位：晶体材料研究院