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彭燕

性别:女

在职信息:在职

所在单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)

入职时间:2011-08-16

所属院系: 晶体材料研究院

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Nucleation growth mechanism of diamond on 4H-SiC substrate by microwave plasma chemical vapor deposition

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所属单位:新一代半导体材料研究院

发表刊物:MATERIALS TODAY COMMUNICATIONS

第一作者:王希玮

论文编号:32143576C2254570B520E462205E4DBE

期号:31

字数:6

是否译文:

发表时间:2022-04

发布时间:2022-11-02

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