胡小波
  • 职称:教授
  • 所在单位:晶体材料研究院
教师拼音名称:huxiaobo
入职时间:1997-09-01
所在单位:晶体材料研究院
性别:
在职信息:在职
是否在职:1

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标题:
Morphological and microstructural analysis of triangular defects in 4H-SiC homoepitaxial layers
点击次数:
所属单位:
新一代半导体材料研究院
发表刊物:
CrystEngComm
第一作者:
于金英
论文编号:
1523586492268548098
卷号:
24
期号:
8
页面范围:
1582-1589
字数:
4000
是否译文:
发表时间:
2022-02-28
发表时间:
2022-02-28
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