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彭燕

性别：女

在职信息：在职

所在单位：晶体材料研究院

入职时间：2011-08-16

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Homoepitaxy Growth of Single Crystal Diamond under 300 torr Pressure in the MPCVD System

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所属单位：新一代半导体材料研究院

发表刊物：MATERIALS

第一作者：胡小波

论文编号：909C8F1752E347E8A4F8072978DDD687

期号：23

字数：3000

是否译文：否

发表时间：2019-12-28

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