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彭燕

性别:女

在职信息:在职

所在单位:晶体材料研究院

入职时间:2011-08-16

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Improvement of the resistivity uniformity of 8-inch 4H–SiC wafers by optimizing the thermal field

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所属单位:晶体材料研究院

发表刊物:VACUUM

第一作者:胡国杰

论文编号:1754450207846453250

卷号:222

字数:3000

是否译文:

发表时间:2024-04-01

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