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胡小波

教师拼音名称：huxiaobo
入职时间：1997-09-01
所在单位：晶体材料研究院
性别：男
在职信息：在职
是否在职：1

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

标题：

用于MPCVD 金刚石薄膜生长的高表面质量HTHP 金刚石的制备

点击次数：

所属单位：

新一代半导体材料研究院

发表刊物：

《材料导报》

第一作者：

彭燕

论文类型：

应用研究

论文编号：

3166619AA9A64481B04FBF8B56201AB9

期号：

字数：

3000

是否译文：

否

发表时间：

2021-02-25

发表时间：

2021-02-25

上一条： Revelation of the dislocations in the C-face of 4H-SiC substrates using a microwave plasma etching treatment

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