胡小波
  • 职称：教授
  • 所在单位：晶体材料研究院
教师拼音名称：huxiaobo
入职时间：1997-09-01
所在单位：晶体材料研究院
性别：男
在职信息：在职
是否在职：1

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标题：
Revelation of the dislocations in the C face of 4HSiC substrates using a microwave plasma etching treatment
点击次数：
所属单位：
新一代半导体材料研究院
发表刊物：
CRYSTENGCOMM
第一作者：
彭燕
论文编号：
FE028CCECC824D29AC9F02E107A1EB6E
期号：
23
页面范围：
353
字数：
3000
是否译文：
否
发表时间：
2020-10-12
发表时间：
2020-10-12
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