胡小波
  • 职称:教授
  • 所在单位:晶体材料研究院
教师拼音名称:huxiaobo
入职时间:1997-09-01
所在单位:晶体材料研究院
性别:
在职信息:在职
是否在职:1

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标题:
Growth and temperature-depending raman characterization of different nitrogen-doped 4H-SiC crystals
点击次数:
所属单位:
晶体材料研究院
发表刊物:
Materials Science Forum
关键字:
Electric properties;Hall mobility;Nitrogen;Nitrogen compounds;Phonons;Raman scattering;Silicon carbide;Single crystals
第一作者:
杨祥龙
论文编号:
F5F7E8C04B1C432F83B84D21E4A75475
期号:
897
页面范围:
307
字数:
2
是否译文:
发表时间:
2017-05-15
发表时间:
2017-05-15
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